過去の在籍者
Ryoichi Ishihara 石原 良一
特任准教授
電子デバイス ナノエレクトロニクス
研究プロジェクト
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エキシマーレーザー結晶化法による位置制御シリコンアイランドの形成(2007)
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種結晶基板なしで位置と方位を制御した単一グレインTFTの開発 (2010)
1996 - 2003 |
デルフト工科大学 ポスドク |
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2003 - 2007 |
デルフト工科大学 助教 |
2007 - |
デルフト工科大学 准教授 |
2016 - |
東京工業大学科学技術創成研究院特任准教授 |
2003 |
Outstanding poster award, IDW (International Display Workshop) |
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2005 |
Best Paper Award, The International Workshop on Active-Matrix Flat-Panel Displays (AMFPD) |
2007 |
Best Paper Award, The International Workshop on Active-Matrix Flat-Panel Displays (AMFPD) |
2009 |
Best Poster Award, E-MRS 2009 Spring Meeting |
2014 |
Best Paper Award, ITC (International Thin-Film Transistor Conference) |
2014 |
J. Zhang, M. Van Der Zwan, R. Ishihara, “Single-grain Si TFTs fabricated from sputtered si on a polyimide substrate”, IEEE/OSA Journal of Display Technology, 10 (11), (2014) art. no. 6762833, pp. 945-949 |
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2015 |
Fiorentino, G., Vollebregt, S., Tichelaar, F.D., Ishihara, R., Sarro, P.M, “Impact of the atomic layer deposition precursors diffusion on solid-state carbon nanotube based super-capacitors performances”, (2015) Nanotechnology, 26 (6), art. no. 064002, |